Urządzenie fotolitograficzne bezmaskowe, przeznaczone do szybkiego tworzenia prototypów w laboratoriach badawczo rozwojowych i clean roomach. Rozdzielczość: 700 nm; rozmiar próbki: 1 mm – 200 mm; prędkość zapisu do 180 mm2/min; długość fali lasera naświetlającego: 405 nm.
Dodatkowe wyposażenie laboratorum do procesów nakładania rezystów i trawienia chemicznego próbek: Spin-coater Sawatec SM-180, płyta grzejna Sawatec HP-200.
ZASTOSOWANIE
1) Metalurgia
– analiza zgładów metalograficznych,
– badanie rozkładu powierzchniowego faz chemicznych np. stopów metalicznych;
2) Elektronika i spintronika
– nanoszenie warstw ochronnych (przewodzących i izolujących) w warunkach wysokiej próżni,
– projektowanie i przygotowanie ścieżek/kontaktów;
3) Elektrycznych dla submikronowych układów elektronicznych,
– wytwarzanie anten do wzbudzeń mikrofalowych i absorberów Thz,
– modyfikacja właściwości magnetycznych przy użyciu jonów Ga+;
4) Technika półprzewodnikowa
– tworzenie masek do procesów fotolitograficznych,
– wytwarzanie matryc złączy Schottkiego.
